磁控溅射镀膜与等离子体化学气相沉积镀膜的区别?我就知道一个是物理气相沉积,一个是化学气相沉积,其他的都不是很了解,他们的具体原理上的区别?

来源：学生作业帮助网编辑：作业帮时间：2024/04/19 15:12:09

磁控溅射镀膜与等离子体化学气相沉积镀膜的区别?我就知道一个是物理气相沉积,一个是化学气相沉积,其他的都不是很了解,他们的具体原理上的区别?
磁控溅射镀膜与等离子体化学气相沉积镀膜的区别?
我就知道一个是物理气相沉积,一个是化学气相沉积,其他的都不是很了解,他们的具体原理上的区别?

磁控溅射镀膜与等离子体化学气相沉积镀膜的区别?我就知道一个是物理气相沉积,一个是化学气相沉积,其他的都不是很了解,他们的具体原理上的区别?
楼主概念不对
膜层一般为蒸发镀膜、溅射镀膜、喷涂镀膜、电离镀膜等方法.
溅射镀膜过程中,在靶与基体之间形成了含有离子、电子、中性原子团组成的对外显中性的气体,这就是等离子体.
溅射镀膜过程分为物理气象沉积、化学气象沉积、物理/化学气象沉积他们都是在等离子体中形成的.
物理气象沉积,是等离子体中的正离子轰击靶表面轰击来的分子/原子溅射到基体表面,飞行过程中并为发生任何反应.
化学气象沉积,是等离子体中的正离子轰击靶表面轰出来的分子/原子溅射到基体表面,飞行过程中发生了化学反应.
不过一般的磁控溅射都是物理、化学气象沉积的共同结果.
我这样说楼主是否能够清楚一些?

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